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Artículos Regulares


Rev. LatinAm. Metal. Mat. 2011, 31(2): 128-133

EFECTO DE LA CONCENTRACION DE ION CLORURO EN LA ESTRUCTURA DE ELECTRODEPOSITOS DE COBRE
(EFFECT OF THE CONCENTRATION OF CHLORIDE ION IN THE STRUCTURE OF ELECTRODEPOSITS OF COPPER)

Juan Alejandro Aragón Maureira, Juan Alejandro Camus Arancibia

Online: 24-03-2011

GA-106

Abstract


El análisis metalográfico de los depósitos de cobre obtenidos en soluciones ácidas de sulfato de cobre, cuando se cambia la concentración del cloruro, entre 20-50 mg/L, permite corroborar que el depósito de grano grueso de tipo “cristales que reproducen la base” (RB) inicial, empieza a afinarse pasando a un crecimiento de textura orientada en el campo de tipo FT a una estructura en forma de polvo o estructuras dispersas sin orientación, de tipo UD. Sobre los 50 mg/L de cloruro se produce el efecto contrario, el tamaño de grano empieza a aumentar. Además, al adicionar guar entre 15 y 30 mg/L, se observa que con 30 g/L de cloruro, mejora la calidad del depósito, la que se optimiza al aumentar la densidad de corriente hasta 290 A/m2 y la temperatura hasta 55ºC.

Metallography analysis of deposits of copper obtained from acidic solutions of copper sulphate, when changing the concentration of chloride, between 20 - 50 mg/L, allows to corroborate that the deposit of coarse-grained of type "crystals that reproduce the base" (RB) initial, begins to tune it to a growth of texture oriented in the field of type FT to the powder structure or scattered structures without orientation, of type UD. Over the 50 mg/L of chloride is produced the opposite effect, grain size began to increase. To add further guar between 15 and 30 mg/L, notes that with 30 g/L of chloride, improves the quality of the deposit, which is optimized increasing current density up to 290 A/m2 and temperature to the 55ºC


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