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Artículos Regulares


Rev. LatinAm. Metal. Mat. 2015, 35(2): 237-241

STRUCTURAL AND MORPHOLOGICAL PROPERTIES OF BI(X)SI(Y)O(Z) THIN FILMS PREPARED VIA UNBALANCED MAGNETRON SPUTTERING
(PROPIEDADES ESTRUCTURALES Y MORFOLOGICAS DE PELICULAS DELGADAS DE BI(X)SI(Y)O(Z) PRODUCIDAS POR LA TECNICA DE UNBALANCED MAGNETRON SPUTTERING)

Giovany Orozco Hernández, Jhon Jairo Olaya Flórez

Online: 28-01-2015

GA-603

Abstract


Bismuth-silicon-oxygen-based thin films were prepared via an unbalanced magnetron sputtering system in a reactive atmosphere with a mixture of argon and oxygen at room temperature. It is clear that this technique is highly environmentally friendly and does not produce toxic products or gases during or after the process. These films exhibited high homogeneity and constant thickness around 200 nm. The structural properties of the films were analyzed by means of X-ray diffraction, which mainly showed the presence of bismuth and bismuth oxide. As for the morphological properties, con-focal microscopy measurements showed good homogeneity over the surface as well as low average roughness, which indicates good thickness uniformity.

Se produjeron películas delgadas de bismuto-silicio-oxigeno por medio de un sistema de deposición física de vapores asistido por plasma y con un magnetrón desbalanceado (UBM por sus siglas en inglés) con atmósfera reactiva de argón y oxígeno, y a temperatura ambiente. Las películas mostraron alta homogeneidad y espesor constante de aproximadamente 200 nm. Las propiedades estructurales de las películas fueron analizadas mediante difracción de rayos X en donde se evidencia la alta presencia de bismuto y óxido de bismuto. En cuanto a lo que tiene que ver con las propiedades morfológicas se hicieron medidas de microscopía con-focal donde se evidencia la buena homogeneidad de las películas sobre la superficie y la baja rugosidad promedio que a su vez indica buena uniformidad del espesor.


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