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Artículos Regulares


Rev. LatinAm. Metal. Mat. 2011, 31(1): 59-63

PROPIEDADES FOTOLUMINISCENTES DE PELICULAS ZNO: a-SIOX OBTENIDAS POR LA TÉCNICA CVD ASISTIDO POR FILAMENTO CALIENTE

Roberto López Ramírez, Tomás Díaz Becerril, Enrique Rosendo Andrés, Godofredo García Salgado, Antonio Coyopol, Héctor Juárez

Online: 15-11-2010

GA-80

Abstract


El interés actual por materiales constituidos por más de un componente, se ha incrementado en los últimos años debido a las propiedades que éstos presentan. En este trabajo, se realizó un estudio de las propiedades fotoluminiscentes de compositos ZnO:a-SiOx. Para la obtención del material, se empleó la técnica de depósito químico en fase vapor asistido por filamento caliente (HFCVD) en un rango de temperaturas entre 900-1100 °C. Se incluyó una fuente sólida de cuarzo (SiO2) en el ambiente de crecimiento, para estudiar su efecto en las propiedades de las películas depositadas. La caracterización estructural por difracción de rayos-X (XRD), y por espectroscopia infrarroja (FTIR), indicaron que las fases de ZnO y a-SiOx coexisten independientemente de la temperatura de depósito, aunque este parámetro es determinante en la fase que domina la emisión fotoluminiscente.

The current interest in materials consisting of more than one component, has increased in recent years due to the properties they present. In this work, we carried out a study of photoluminescent properties of ZnO: a-SiOx composites. To obtain the material, hot filament chemical vapor deposition (HFCVD) technique was employed in a temperature range of 900-1100 °C. We include a solid source of quarts (SiO2) in the growth environment, to study its effect on deposited films properties. Structural characterization by X-ray diffraction (XRD) and infrared spectroscopy (FTIR), indicated that the phases ZnO and a-SiOx coexist regardless of the deposit temperature, although this parameter is decisive in the dominant photoluminescent emission phase.


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