EFECTO DE LA CONCENTRACION DE ION CLORURO EN LA ESTRUCTURA DE ELECTRODEPOSITOS DE COBRE

Autores/as

  • Juan Alejandro Aragón Maureira Profesor Departamento de Ingenierí­a.
  • Juan Alejandro Camus Arancibia Profesor del Departamento de Quimica de la Universidad de Playa Ancha

Resumen

El análisis metalográfico de los depósitos de cobre obtenidos en soluciones ácidas  de sulfato de cobre, cuando se cambia la concentración del cloruro, entre 20-50 mg/L, permite corroborar que el depósito de grano grueso de tipo “cristales que reproducen la base” (RB) inicial, empieza a afinarse pasando a un crecimiento de textura orientada en el campo de tipo FT a una estructura  en forma de polvo o estructuras dispersas sin orientación, de tipo UD. Sobre los 50 mg/L de cloruro se produce el efecto contrario, el tamaño de grano empieza a aumentar. Además, al adicionar guar entre 15 y 30 mg/L, se observa que con 30 g/L de cloruro, mejora la calidad del depósito, la que se optimiza al aumentar la densidad de corriente hasta 290 A/m2 y la temperatura hasta 55ºC.

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Biografía del autor/a

Juan Alejandro Aragón Maureira, Profesor Departamento de Ingenierí­a.

Departamento de Ingenieria Academico

Juan Alejandro Camus Arancibia, Profesor del Departamento de Quimica de la Universidad de Playa Ancha

Departamento de Quimica Decano

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Publicado

2011-03-24

Cómo citar

Aragón Maureira, J. A., & Camus Arancibia, J. A. (2011). EFECTO DE LA CONCENTRACION DE ION CLORURO EN LA ESTRUCTURA DE ELECTRODEPOSITOS DE COBRE. Revista Latinoamericana De Metalurgia Y Materiales, 128–133. Recuperado a partir de https://www.rlmm.org/ojs/index.php/rlmm/article/view/106

Número

Sección

Artí­culos Regulares