RESISTENCIA AL DESGASTE Y A LA CORROSIÓN DE RECUBRIMIENTOS DE DLC DEPOSITADOS SOBRE ACEROS AISI 304 Y AISI 1020
Resumen
En este trabajo se produjeron películas de DLC (Diamond-like Carbon) sobre sustratos de acero inoxidable AISI 304 y acero al carbono AISI 1020. Las películas fueron depositadas utilizando la técnica de descarga en plasma DC-pulsada PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) empleando hexano (C6H14) como gas precursor. Con el objetivo de elevar la adherencia de las películas a los substratos de acero, una intercapa de silicio amorfo fue depositada utilizando la misma técnica de deposición y gas silano (SiH4) como precursor. Las películas de DLC fueron caracterizadas a través de sus propiedades mecánicas y tribológicas, así como de su resistencia a la corrosión. Los resultados experimentales demostraron que la utilización de la intercapa de silicio amorfo aumenta considerablemente la adherencia de las películas a los substratos de acero. Un aumento considerable en la dureza permitió la disminución del coeficiente de fricción y un incremento a la resistencia al desgaste, así como un aumento de la resistencia a la corrosión en la superficie de los aceros.Descargas

Descargas
Publicado
Cómo citar
Número
Sección
Licencia
Los autores de Artículos Aceptados para su publicación por parte de la RLMM, deberán reconocer la completa transferencia de los derechos de autor en todos los idiomas a la RLMM. Esta transferencia incluye el derecho de la RLMM de adaptar el Artículo para fines de reproducción en medios digitales o impresos sin alterar su contenido escrito así como la información mostrada en tablas o figuras que hayan sido aceptadas para su publicación.
Los autores conservan los derechos de autor y garantizan a la revista el derecho de ser la primera publicación del trabajo al igual que licenciado bajo una Creative Commons Attribution License 4.0 Internacional (CC BY 4.0) que permite a otros compartir el trabajo con un reconocimiento de la autorÃa del trabajo y la publicación inicial en esta revista.