PROPIEDADES ESTRUCTURALES Y MORFOLOGICAS DE PELICULAS DELGADAS DE BI(X)SI(Y)O(Z) PRODUCIDAS POR LA TECNICA DE UNBALANCED MAGNETRON SPUTTERING

Resumen

Se produjeron películas delgadas de bismuto-silicio-oxigeno por medio de un sistema de deposición física de vapores asistido por plasma y con un magnetrón desbalanceado (UBM por sus siglas en inglés) con atmósfera reactiva de argón y oxígeno, y a temperatura ambiente. Las películas mostraron alta homogeneidad y espesor constante  de  aproximadamente  200  nm.  Las  propiedades  estructurales  de  las  películas  fueron  analizadas mediante difracción de rayos X en donde se evidencia la alta presencia de bismuto y óxido de bismuto. En cuanto a lo que tiene que ver con las propiedades morfológicas se hicieron medidas de microscopía con-focal donde se evidencia la buena homogeneidad de las películas sobre la superficie y la baja rugosidad promedio que a su vez indica buena uniformidad del espesor.